反滲透設(shè)備優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商 10年專注標(biāo)準(zhǔn)化反滲透純水設(shè)備定制廠家

電力化學(xué)行業(yè)一直是工業(yè)用水大戶，由于鍋爐在高溫高壓條件下工作，熱力設(shè)備的結(jié)垢、腐蝕、積鹽對設(shè)備的安全運行造成嚴(yán)重隱患，因此在能源及工業(yè)用高壓鍋爐領(lǐng)域，對水質(zhì)的要求一直很高。

EDI超純水設(shè)備在電廠中的應(yīng)用主要為電廠鍋爐補給水。以EDI為關(guān)鍵設(shè)備的水處理系統(tǒng)能夠脫除水中的各種雜質(zhì)滿足鍋爐用水需求，使鍋爐能夠安全、經(jīng)濟、可靠而穩(wěn)定運行以及產(chǎn)出合格的蒸汽和熱水。

根據(jù)《火力發(fā)電廠化學(xué)設(shè)計技術(shù)規(guī)程》(DL/T5068-2006)中規(guī)定，對EDI超純水設(shè)備的進(jìn)水水質(zhì)要求：水溫5～40℃，pH值5～9，SiO2≤0.5mg/l，游離余氯Cl2≤0.05mg/l，鐵(Fe)≤0.01mg/l，錳(Mn)≤0.01mg/l，總有機碳(mg/l)≤0.5TOC，硬度(以CaCO3計)≤1mg/l，電導(dǎo)率小于40μs/cm。關(guān)于鍋爐補給水的電導(dǎo)率小于0.2mS/cm、SiO2質(zhì)量濃度小于20mg/L。

基本上鍋爐的補給水可以按以下流程來做：

原水—預(yù)處理—一級處理—二級處理—除氧器—加藥—進(jìn)鍋爐

原水分幾個情況：

1)為地表水，預(yù)處理可為混凝沉淀

2)為自來水，預(yù)處理可為活性炭或多介質(zhì)過濾器(亦或超濾)

3)為中水，預(yù)處理可為混凝+活性炭過濾

一級處理和二級處理一般以RO+EDI、RO+RO、RO+混床、RO+附床。這些技術(shù)已經(jīng)比較常見了。

電力行業(yè)EDI超純水設(shè)備工藝：

近年來，全膜法作為水處理的一種前沿技術(shù)，將微濾、超濾、反滲透和電去離子(EDI)等4種膜分離技術(shù)聯(lián)合應(yīng)用于工業(yè)水處理，稱之為全膜水處理技術(shù)。全膜工藝的最大優(yōu)點是環(huán)境污染少、勞動強度低和易于實現(xiàn)制水全過程的自動化。目前“全膜法”在電廠應(yīng)用越來越多。

電廠根據(jù)原水水質(zhì)的特點及機組對水汽品質(zhì)的要求，鍋爐補給水處理系統(tǒng)按“全膜法”工藝，在原水水質(zhì)條件較好、處理水量較少時，此方案無論從基建投資還是運行投資都較節(jié)省，且離子交換樹脂不需使用酸堿再生，節(jié)約大量酸堿和清洗用水，降低勞動強度，對環(huán)境沒有污染。EDI出水電導(dǎo)基本在0.05～0.06μs/cm之間，出水水質(zhì)穩(wěn)定。

由于電力行業(yè)用水要控制水中的溶解氣體(O2 )，后處理通常增加除氧裝置，以滿足鍋爐補給水的要求。

方案一：(工藝流程圖應(yīng)做一下效果)

采用兩級反滲透方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→除氧裝置→用水點

方案二：

采用EDI方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透或雙級反滲透→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→除氧裝置→用水點

預(yù)處理系統(tǒng)：雙介質(zhì)過濾器或超濾裝置，主要去除水中的顆粒、膠體、懸浮物、大分子有機物、濁度等，使出水滿足反滲透的進(jìn)水條件(主要有濁度和SDI值兩個指標(biāo))。

除鹽系統(tǒng)包括一、二級反滲透和EDI。一級反滲透作為預(yù)脫鹽裝置，脫除水中大部分的溶解鹽類、顆粒、硬度、活性硅，二級反滲透和EDI作為精脫鹽裝置，進(jìn)一步脫除水中微量的溶解鹽類、硬度、活性硅，使整個系統(tǒng)的出水水質(zhì)達(dá)到超高壓亞臨界鍋爐的補水水質(zhì)要求。

EDI產(chǎn)水電導(dǎo)率穩(wěn)定在0.06mS/cm以下，滿足鍋爐補給水的要求(<0.2mS/cm)

硅是鍋爐補給水的一項重要指標(biāo)，膜法除鹽系統(tǒng)各單元對硅均有較高的脫除率。一級反滲透脫硅率達(dá)到99%左右，而二級反滲透進(jìn)水的硅含量較低(84ppb)，其對硅的脫除率也相對較低，約86%，而EDI對硅的脫除率約為83%。系統(tǒng)產(chǎn)水硅含量在0.003mg/L(3ppb)左右。

方案三：

原水→原水池→原水泵→換熱器→管道混合器→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→保安過濾器→高壓泵→反滲透→中間水箱→中間水泵→電去離子( EDI)→除鹽水箱。

補給水系統(tǒng)由預(yù)處理系統(tǒng)、RO預(yù)除鹽系統(tǒng)、EDI精除鹽系統(tǒng)組成，如圖所示。

預(yù)處理系統(tǒng)包括原水箱、生水泵、板式換熱器、多介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器等，用以除去原水中的懸浮物、膠體等;RO系統(tǒng)包括保安過濾器、高壓泵、反滲透膜和中間水箱，能脫除原水中97%的含鹽量;EDI系統(tǒng)包括中間水泵、電除鹽設(shè)備、除鹽水箱等。

產(chǎn)水電阻率一直穩(wěn)定在5～12.15MΩ•cm之間，操作非常簡單，操作人員只需在計算機前即可完成全部操作。

方案四：

原水采用循環(huán)排污水(或河水)→加熱器→[生水箱]→多介質(zhì)過濾器→盤式過濾器 →SFP超濾裝置→[清水箱]→一級反滲透裝置→除碳器→[中間水箱]→二級反滲透裝置→[淡水箱]→EDI裝置→[除鹽水箱]

循環(huán)水排污水濁度10~20NTU，CODMn約10ppm，電導(dǎo)率1600mS/cm，全硅2.6-8.6ppm。經(jīng)“預(yù)過濾-超濾-反滲透”后作為循環(huán)水補水，部分經(jīng)EDI處理后作為鍋爐補給水;產(chǎn)水二氧化硅含量：1.2-5mg/L(電阻率14~16 MΩ•cm)，產(chǎn)水滿足高壓鍋爐補給水要求。