反滲透設(shè)備優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商 10年專注標(biāo)準(zhǔn)化反滲透純水設(shè)備定制廠家

隨著信息時(shí)代的到來，作為電子工業(yè)的核心—超大規(guī)模集成電路有著巨大的市場(chǎng)需求。在集成電路生產(chǎn)的幾百道工序中，其80%以上需高純水清洗。水中的各種超微量雜質(zhì)都會(huì)對(duì)產(chǎn)品產(chǎn)生重要影響。因此，VLSI和 ULSI對(duì)水質(zhì)的要求成為高純水水質(zhì)的極至。電子工業(yè)中其他部門對(duì)純水和超純水均有著廣泛的需求，如彩色顯像管的生產(chǎn)等等。

超純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一。超純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出。半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備，這是一種制取超純水的首選工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚒?/p>

電子工業(yè)用超純水的應(yīng)用領(lǐng)域

1)半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路。

2)超純材料和超純化學(xué)試劑。

3)實(shí)驗(yàn)室和中試車間。

4)汽車、家電表面拋光處理。

5)光電產(chǎn)品。

6)其他高科技精微產(chǎn)品。

制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程

電子行業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下幾種：

方案一：

預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對(duì)象(≥15 MΩ•cm)

方案二：

預(yù)處理-一級(jí)反滲透-加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))-中間水箱-二級(jí)反滲透-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對(duì)象(≥17 MΩ•cm)

方案三：

預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對(duì)象(≥18 MΩ•cm)

在電子光學(xué)超純水設(shè)備設(shè)計(jì)上，通常采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動(dòng)化程度高的兩級(jí)RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝;或者是全膜法處理工藝：UF+二級(jí)RO+EDI+拋光混床。確保處理后出水電阻率達(dá)到18 MΩ•cm以上。