EDI系統(tǒng)主要功能是為了進一步除鹽, EDI系統(tǒng)中純凈水設(shè)備主要包括反滲透產(chǎn)水箱、EDI給水泵、EDI裝置及相關(guān)的閥門、連接管道、儀表及控制系統(tǒng)等。電去離子利用電的活性介質(zhì)和電壓來達到離子的運送，從水中去除電離的或可以離子化的物質(zhì)。電去離子與電滲析或通過電的活性介質(zhì)來進行氧化/還原的工藝是有區(qū)別的。

電的活性介質(zhì)在電去離子裝置當中用于交替收集和釋放可以離子化的物質(zhì)，便于利用離子或電子替代裝置來連續(xù)輸送離子。電去離子裝置可能包括永久的或臨時的填料，操作可能是分批式、間歇的或連續(xù)的。對裝置進行操作可以引起電化學(xué)反應(yīng)，這些反應(yīng)是專門設(shè)計來達到或加強其性能，可能包括電活性膜，如半滲透的離子交換膜或兩極膜。

連續(xù)的電去離子( EDI)工藝區(qū)別于收集/排放工藝(如電化學(xué)離子交換或電容性去離子)，這個工藝過程是連續(xù)的，而不是分批的或間歇的，相對于離子的能力而言，活性介質(zhì)的離子輸送特性是一個主要的選型參數(shù)。典型連續(xù)的電離子裝置包括半滲透離子交換膜，永久通電的介質(zhì)，產(chǎn)生直流電的電源。

EDI單元是由兩個相鄰的離子交換膜或由一個膜和一個相鄰的電極組成. EDI單元一般有交替離子損耗和離子集中單元，這些單元可以用相同的進水源，也可以用不同的進水源。水在EDI裝置中通過離子轉(zhuǎn)移被純化。被電離的或可電離的物質(zhì)從經(jīng)過離子損耗的單元的水中分離出來而流人到離子濃縮單元的濃縮水中。

在EDI單元中被純化的水只經(jīng)過通電的離子交換介質(zhì)，而不是通過離子交換膜。離子交換膜是能透過離子化的或可電離的物質(zhì)，而不能透過水。

純化單元一般在一對離子交換膜中能永久的對離子交換介質(zhì)進行通電。在墨日離子和陰離子膜之間，通過有些單元混合(陽離子和陰離子)離子交換介質(zhì)來組成純化水單元;有些單元在離子交換膜之間通過陽離子和陰離子交換介質(zhì)結(jié)合層形成了純化單元;其他的裝置通過在離子交換膜之間的單一離子交換介質(zhì)產(chǎn)生單一的純化單元(陽離子或陰離子)CEDI單元可以是板框結(jié)構(gòu)或螺旋卷式結(jié)構(gòu)。

通電時在EDI裝置的陽極和陰極之間產(chǎn)生一個直流電場，原料水中的陽離子在通過純化單元時被吸引到陰極，通過陽離子交換介質(zhì)來輸送，其輸送或是通過陽離子滲透膜或是被陰離子滲透膜排斥;陰離子被吸引到陽極，并通過陰離子交換介質(zhì)來輸送，其輸送或是通過陰離子滲透膜或是被陽離子滲透膜排斥。

離子交換膜包括在濃縮FDT中在純化單元中通電時在EDI裝置的陽極和陰極之間產(chǎn)生一個直流電場，原料水中的陽離子在通過純化單元時被吸引到陰極，通過陽離子交換介質(zhì)來輸送，其輸送或是通過陽離子滲透膜或是被陰離子滲透膜排斥;陰離子被吸引到陽極，并通過陰離子交換介質(zhì)來輸送，其輸送或是通過陰離子滲透膜或是被陽離子滲透膜排斥。離子交換膜包括在濃縮單元中在純化單元中去除的陽離子和陰離子，因此離子污染就從EDI單元里去除了。有些EDI單元利用濃縮單元中的離子交換介質(zhì)。

EDI技術(shù)是將電滲析和離子交換相結(jié)合的除鹽工藝，該裝置取電滲析和混床離子交換兩者之長，彌補對方之短，即可利用離子交換做深度處理，且不用藥劑進行再生，利用電離產(chǎn)生的H+和OH一，達到再生樹脂的目的。由于純化水流中的離子濃度降低了水離子交換介質(zhì)界面的高電壓梯度，導(dǎo)致水分解為離子成分(H+和OH一)，在純化單元的出口末端，H+和OH一離子連續(xù)產(chǎn)生，分別地重新生成陽離子和陰離子交換介質(zhì)。離子交換介質(zhì)

的連續(xù)高水平的再生使CEDI工藝中可以產(chǎn)生高純水(1～18MQ'cm)。

EDI的產(chǎn)品及工作原理

EDI單元不能去除水中所有的污染物，主要是去除離子的或可離子化的物質(zhì)。CEDI(continuous electrodeionization，連續(xù)電去離子)單元不能完全純化進水流，系統(tǒng)中的污染物是通過濃縮水流來排掉oCEDI在實際操作中是有溫度限制的，大多數(shù)EDI單元是在10—40C進行操作。

EDI單元必須避免水垢的形成，還有污垢和受熱或氧化退化。預(yù)處理及反滲透裝置能明顯地降低硬度、有機物、懸浮固體和氧化劑，從而達到可以接受的水平。

EDI單元主要用一些化學(xué)劑消毒，包括：無機酸、碳酸鈉、氫氧化鈉、過氧化氫等。特殊制造的EDI模塊可以采用80C左右的熱水消毒。